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MicroChem光刻膠也稱為光致抗蝕劑，是一種光敏材料，它受到光照后特性會發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。

　　光刻膠有正膠和負膠之分。正膠經(jīng)過曝光后，受到光照的部分變得容易溶解，經(jīng)過顯影后被溶解，只留下未受光照的部分形成圖形；而負膠卻恰恰相反，經(jīng)過曝光后，受到光照的部分會變得不易溶解，經(jīng)過顯影后，留下光照部分形成圖形。

　　負膠在光刻工藝上應用早，其工藝成本低、產(chǎn)量高，但由于它吸收顯影液后會膨脹，導致其分辨率（即光刻工藝中所能形成小圖形）不如正膠，因此對于亞微米甚至更小尺寸的加工技術，主要使用正膠作為光刻

　　MicroChem光刻膠使用注意事項：

　　①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠

　?、诳垂饪虣C型式,若是投影方式,用常規(guī)負膠時氮氣環(huán)境可能會有些問題

　?、圬撔阅z價格成本低，正性膠較貴

　?、芄に嚪矫妫贺撔阅z能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽

　?、萁】捣矫妫贺撔阅z為有機溶液處理，不利于環(huán)境；正性膠屬于水溶液，對健康、環(huán)境無害